拉伸(shen)單晶(jing)所用(yong)石墨(mo)異(yi)形(xing)件加工
    石英(ying)蠟場(chang)制(zhi)作用(yong)石墨(mo)坩場(chang)和超(chao)高純(chun)石墨部件加工在Cz法(fa)拉伸單晶(jing)矽(gui)時(shi)運(yun)用(yong)石英(ying)坩蝸。石(shi)墨異(yi)形(xing)件加工石英(ying)坩期(qi)的(de)制(zhi)作工藝為(wei)在石(shi)墨(mo)模具(ju)內(nei)裝人天(tian)然(ran)的(de)水(shui)晶粉末(mo)（a-Si0,)，在旋(xuan)轉的(de)壹(yi)起(qi)運(yun)用(yong)離心力(li)使(shi)粉末(mo)沿模具內(nei)壁附著(zhe)，然(ran)後(hou)將(jiang)多(duo)個高純(chun)石墨(mo)異(yi)形(xing)件加工刺(ci)進模(mo)具中(zhong)運(yun)用(yong)電(dian)弧放電(dian)加熱(re)至(zhi)大(da)約(yue)2000℃，溶融(rong)粉末(mo)和(he)內(nei)側(ce)的(de)粉末(mo)變(bian)化(hua)為溶融(rong)石(shi)英(ying)並(bing)通明(ming)，冷(leng)卻(que)後(hou)取(qu)出(chu)石英(ying)址(zhi)鍋，除(chu)去外(wai)部(bu)粉末(mo)即為制(zhi)品(pin)。電(dian)極因(yin)放電(dian)而氧化(hua)消耗(hao)，由於電(dian)極放置在水(shui)晶粉末(mo)的(de)上(shang)方，為不混入金(jin)屬(shu)雜(za)質(zhi)需(xu)運(yun)用(yong)超高(gao)純(chun)石(shi)墨。
    PBN(熱分化(hua)氮(dan)化硼(peng)）坩場(chang)制(zhi)作用(yong)石墨(mo)異(yi)形(xing)件加工在拉(la)伸(shen)單晶(jing)化(hua)合(he)物時(shi)運(yun)用(yong)PBN坩塌。PBN坩場(chang)的(de)制(zhi)作工藝為(wei)，以加(jia)工成型的(de)高(gao)純石(shi)墨模(mo)具為(wei)基材，運(yun)用(yong)CVD法(fa)在其(qi)外(wai)表(biao)蒸鍍BN。由於石(shi)墨(mo)的(de)線(xian)膨脹(zhang)系數(shu)比(bi)PBN的(de)大(da)，冷卻(que)後能簡(jian)略(lve)取(qu)出(chu)PBN坩場(chang)。為了前進PBN的(de)純(chun)度，也要求(qiu)運(yun)用(yong)高純(chun)石(shi)墨(mo)異形件加工。