石(shi)墨槽板(ban)加工在核裂變(bian)原(yuan)理中(zhong)的運用(yong)
核裂變(bian)原(yuan)理
    U受(shou)理中(zhong)子的突擊,發(fa)生(sheng)核裂變(bian)釋(shi)放出中子和巨(ju)大(da)的能量(liang),中(zhong)子(zi)又突擊其(qi)他(ta)U又釋(shi)放出中子和能量(liang),這(zhe)種連(lian)鎖反(fan)響非常(chang)活絡(luo),若不能控制(zhi)中子的速度,就變(bian)成了原(yuan)子(zi)彈(dan),若對中子進行控制(zhi),就可以運用(yong)核裂變(bian)的能量(liang)來(lai)發(fa)電核裂變(bian)時放出中子,其(qi)動(dong)能為(wei)2MeV(200萬(wan)電子(zi)伏(fu))量(liang)級(ji),速度為(wei)2×10m/s。這(zhe)種中(zhong)子(zi)不易為(wei)核燃(ran)料(liao)所(suo)捕(bu)獲(huo),因此(ci)反響(xiang)不能繼續(xu)下(xia)去(qu)。當中子(zi)能量(liang)低(di)於(yu)1eV(壹電子(zi)伏(fu)特(te))時,鈾(you)同(tong)位(wei)素的裂變(bian)幾率活(huo)絡(luo)增(zeng)加(jia)。到了熱(re)能規劃(在300K時能量(liang)為(wei)0.025eV或(huo)速度為(wei)2200m/s)鈾(you)同(tong)位(wei)素的裂變(bian)幾率就(jiu)變(bian)得(de)相(xiang)當大(da)了(le),減(jian)速劑(ji)或(huo)反射(she)劑(ji)有必要(yao)具(ju)有散射(she)中子(zi)的才幹(gan)時要有較低的捕獲(huo)幾率。散(san)射(she)時中子(zi)還有必要(yao)把(ba)許多(duo)的能量(liang)傳(chuan)遞給靶核。
    在石(shi)墨槽板(ban)加工中,中子每(mei)磕(ke)碰壹次傳(chuan)遞的能量(liang)大(da)約是本身(shen)能量(liang)的15%。這(zhe)樣從(cong)裂(lie)變(bian)中(zhong)子(zi)減(jian)速到均勻(yun)能量(liang)為(wei)1eV就(jiu)需(xu)要(yao)90次磕(ke)碰,減(jian)速到熱中(zhong)子規劃還需(xu)要(yao)再加(jia)25次磕(ke)碰。在減(jian)速進程中(zhong),中(zhong)子抵(di)達(da)leV能量(liang)時走的旅(lv)程是230cm,花的時刻是228us。從1eV到熱能規劃費時140s,行程290cm。因為(wei)這(zhe)些(xie)旅(lv)程是方向紊亂的許多(duo)短(duan)的距離組成的,所以(yi)對(dui)快(kuai)中(zhong)子(zi)熱(re)化(hua)來(lai)說(shuo),中(zhong)子走過(guo)的直(zhi)線距離要(yao)小(xiao)得(de)多,大(da)約為(wei)47cm。許多(duo)石(shi)墨槽板(ban)加工減(jian)速的反響(xiang)堆(dui)燃(ran)料(liao)元(yuan)件擺放的柵距(ju)約為(wei)20cm與(yu)核效果(guo)的核截面(mian)稱(cheng)之為(wei)核常(chang)數(shu)。這(zhe)種效(xiao)果(guo)的幾率應(ying)該(gai)正(zheng)比(bi)於(yu)原(yuan)子(zi)核的截面(mian)積(ji),但不(bu)同(tong)於(yu)其(qi)幾何面(mian)積(ji)。有用核截面(mian)a指(zhi)的是元素的微觀截面(mian)。原(yuan)子(zi)核的幾何半(ban)徑(jing)為(wei)10-厘(li)米量(liang)級(ji),所(suo)以的單(dan)位(wei)為(wei)10cm2,稱(cheng)之為(wei)壹巴(ba)。因為(wei)量(liang)子(zi)效(xiao)應(ying),a是中子(zi)能量(liang)的函(han)數(shu),它(ta)的數(shu)值可(ke)以從(cong)核的幾何視(shi)而(er)改變(bian)到幹管(guan)其(qi)幾何載(zai)面(mian)。“果(guo)中子謝到資料(liao)上(shang)，因為(wei)散(san)射(she)或(huo)吸收(shou)，其(qi)強度(du)將接(jie)指(zhi)數(shu)律衰減(jian)。微觀械面(mian)”(單(dan)位(wei)為(wei)長(chang)度(du)的倒數(shu)）定(ding)義(yi)為(wei)：1=X*e4中(zhong)，1為(wei)射(she)到資料(liao)正(zheng)面(mian)上(shang)的中子(zi)束強度(du)；X為(wei)中(zhong)子數(shu)進入資料(liao)的距離。的量(liang)綱(gang)為(wei)cm和(he)心的關系為(wei)：E=No
    式(shi)中，N是單(dan)位(wei)立(li)方(fang)厘(li)米(mi)裏(li)的原(yuan)子(zi)數(shu)；石(shi)墨槽板(ban)加工可的量(liang)綱(gang)是平方(fang)厘米(mi)。因為(wei)中(zhong)子束強度(du)的衰減(jian)是壹意(yi)班立(li)的進程，總(zong)微觀截面(mian)之(zhi)：是各(ge)個(ge)裁(cai)面(mian)之(zhi)和(he)，假定(ding)。是微觀散射(she)橫面(mian)，二a是微觀吸收(shou)截面(mian)，那(na)麽：Et=Es+Ea
    這(zhe)些(xie)數(shu)值都(dou)與(yu)能量(liang)有關。在(zai)中子(zi)減(jian)速情況下(xia)，二有必要(yao)權(quan)衡(heng)每(mei)個(ge)能量(liang)水(shui)平(ping)下(xia)中子(zi)減(jian)速的時刻，以得(de)到有用械面(mian)三(san)。在(zai)反(fan)射(she)劑(ji)中(zhong)，熱(re)中(zhong)子(zi)截(jie)面(mian)E（h)是重(zhong)要(yao)的。最好(hao)的減(jian)速劑(ji)是熱中(zhong)子吸(xi)收(shou)前的壽數(shu)s比慢(man)化(hua)到1eV的壽數(shu)4長(chang)。以(yi)此(ci)定(ding)義(yi)：減(jian)速劑(ji)質(zhi)量(liang)要(yao)素=t。/t1最好(hao)的反射(she)劑(ji)要(yao)求(qiu)反(fan)射(she)回堆(dui)芯(xin)的散射(she)幾率比(bi)吸(xi)收(shou)掉的幾率大(da)。壹起可以定(ding)義(yi)：
    反射(she)劑(ji)質(zhi)量(liang)要(yao)素=ES(th)/Ea(th)
    石(shi)墨槽板(ban)加工與(yu)這(zhe)兩(liang)項(xiang)目(mu)標(biao)有關的是中子(zi)慢(man)化(hua)到1eV所通(tong)過(guo)的直(zhi)線距離v6L，和(he)中(zhong)子吸收(shou)前的熱書(shu)松(song)散(san)距(ju)離6L。壹般來(lai)說(shuo)，希(xi)望(wang)L，小(xiao)，L大(da)。